不銹鋼蝕刻工藝和特點
不銹鋼蝕刻原理
也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。
不銹鋼蝕刻工藝流程
曝光法：裁切-清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK
網印法：開料→清洗→絲網印→蝕刻→脫膜→OK
特點：
成本低、可蝕刻幾乎所有的金屬、對材料硬度無限制、材料表面無刮花、無毛刺、設計改變靈活、快速、簡單、高效；制程耗時48小時、材料厚度對公差的影響+/-10%，產片包裝轉移方便。
下一篇：不銹鋼蝕刻工藝中電解除油原理上一篇：蝕刻過程中應注意的問題
相關資訊
- 2015-03-12五金蝕刻側腐蝕原因
- 2014-04-28高精度腐蝕廠深圳哪里有？
- 2013-11-18不銹鋼蝕刻技術常見故障以及排除方法
- 2025-04-15什么是蝕刻彈片加工流程
- 2025-04-15什么是蝕刻墊片加工流程
- 2024-07-03微流道技術：精密蝕刻與前沿應用的融合
- 2024-07-02可伐合金：電真空元件的理想封接材料
- 2024-06-11卓力達蝕刻技術：精密遮光片加工的行業先鋒
- 2024-05-29內窺鏡光闌片：醫療內窺鏡中的精密光學器件
- 2024-05-15軟磁合金4J42材料、性能及工藝介紹
正在載入評論數據...
